Applications des vannes UHP & panneaux gaz
Flowlink conçoit et fabrique des vannes ultra haute pureté et des panneaux de gaz sur mesure pour un large éventail d’industries à haute performance. Découvrez toutes nos applications de vannes UHP et de panneaux de gaz.
Systèmes de distribution de gaz
Une performance au service des industries critiques
Les vannes UHP de Flowlink et ses systèmes de distribution de gaz sont conçus pour répondre aux exigences strictes des industries de pointe. De la fabrication de semiconducteurs à l’optique, en passant par l’énergie et la défense, nos composants UHP garantissent un contrôle précis des gaz, ainsi qu’un haut niveau de sécurité et de fiabilité pour les procédés critiques.
Applications
Les applications des
composants et panneaux gaz.
Applications Semiconducteur.
Dépôts & Épitaxie
- LPCVD (Low Pressure Chemical Vapour Deposition – dépôt chimique en phase vapeur à basse pression)
- PECVD (Plasma Enhanced Vapour Deposition – dépôt en phase vapeur assisté par plasma)
- ALD (Atomic Layer Deposition – dépôt par couches atomiques)
- MOCVD (Metal Organic Vapour Deposition – dépôt en phase vapeur d’organométalliques)
- MBE (Molecular Beam Epitaxy è épitaxie par jet moléculaire)
- MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition – dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-ondes)
Croissance cristalline
Nos systèmes de distribution de gaz garantissent une composition et une pureté du gaz constantes durant la croissance cristalline des wafers et des substrats.
Gravure & Implantation ionique
Un dosage et un contrôle précis des gaz sont essentiels pour les étapes de gravure et de dopage. Nos panneaux haute pureté garantissent une gestion des gaz sûre et reproductible, que ce soit sous vide ou en conditions plasma.
Recuit
Les composants Flowlink maintiennent un débit stable et une pureté constante durant les cycles thermiques contrôlés, utilisés pour activer les dopants ou réparer les réseaux cristallins.
Les applications solaires.
Croissance cristalline
La pureté du gaz a un impact direct sur l’uniformité cristalline et sur l’efficacité des wafers solaires.
Dopage en phase vapeur
Les systèmes Flowlink assurent un contrôle des gaz stable et parfaitement étanche pour des opérations de dopage précises.
Applications fibres optiques.
Dépôt
- MCVD (Modified Chemical Vapour Deposition – dépôt chimique en phase vapeur modifié)
- OVD (Outside Vapour Deposition – dépôt en phase vapeur externe)
Ces deux techniques nécessitent une alimentation contrôlée en gaz réactifs à haute température. Flowlink garantit une gestion ultra propre des gaz, depuis la source jusqu’à la zone de dépôt.
Autres industries :
Automobile, Aéronautique, Défense & nucléaire.
Procédés CVD / PVD
Utilisées pour les revêtements protecteurs et les traitements de surface, ces opérations exigent un flux de gaz pur et stable.
Traitement thermique
Nos systèmes assurent des atmosphères contrôlées pour les procédés de traitement des matériaux à haute température.
Croissance de nanotubes de carbone
Flowlink fournit des panneaux gaz de précision permettant une croissance reproductible sous conditions de CVD thermique ou plasma contrôlées.
Boîtes à gants et systèmes de confinement
Les vannes et collecteurs personnalisés ultra-haute pureté garantissent l’étanchéité et la sécurité dans les atmosphères de gaz inerte, utilisées pour la R&D et la manipulation de matières nucléaires.
Documentations & notices
Flowlink.
Découvrez toutes les informations relative à nos composants gaz et accessoires. Sur cette page de documentation, vous trouverez toutes les notices techniques que vous pouvez télécharger au format PDF.
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