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Applications des vannes UHP & panneaux gaz

Flowlink conçoit et fabrique des vannes ultra haute pureté et des panneaux de gaz sur mesure pour un large éventail d’industries à haute performance. Découvrez toutes nos applications de vannes UHP et de panneaux de gaz.

Ultra High Purity gas components

Systèmes de distribution de gaz

Une performance au service des industries critiques

Les vannes UHP de Flowlink et ses systèmes de distribution de gaz sont conçus pour répondre aux exigences strictes des industries de pointe. De la fabrication de semiconducteurs à l’optique, en passant par l’énergie et la défense, nos composants UHP garantissent un contrôle précis des gaz, ainsi qu’un haut niveau de sécurité et de fiabilité pour les procédés critiques.

Applications

Les applications des
composants et panneaux gaz.

Applications Semiconducteur.

Dépôts & Épitaxie

Dépôts & Épitaxie

  • LPCVD (Low Pressure Chemical Vapour Deposition – dépôt chimique en phase vapeur à basse pression)
  • PECVD (Plasma Enhanced Vapour Deposition – dépôt en phase vapeur assisté par plasma)
  • ALD (Atomic Layer Deposition – dépôt par couches atomiques)
  • MOCVD (Metal Organic Vapour Deposition – dépôt en phase vapeur d’organométalliques)
  • MBE (Molecular Beam Epitaxy è épitaxie par jet moléculaire)
  • MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapour Deposition – dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma micro-ondes)
Croissance cristalline

Croissance cristalline

Nos systèmes de distribution de gaz garantissent une composition et une pureté du gaz constantes durant la croissance cristalline des wafers et des substrats.

Gravure & Implantation ionique

Gravure & Implantation ionique

Un dosage et un contrôle précis des gaz sont essentiels pour les étapes de gravure et de dopage. Nos panneaux haute pureté garantissent une gestion des gaz sûre et reproductible, que ce soit sous vide ou en conditions plasma.

Recuit

Recuit

Les composants Flowlink maintiennent un débit stable et une pureté constante durant les cycles thermiques contrôlés, utilisés pour activer les dopants ou réparer les réseaux cristallins.

Les applications solaires.

Croissance cristalline

Croissance cristalline

La pureté du gaz a un impact direct sur l’uniformité cristalline et sur l’efficacité des wafers solaires.

Dopage en phase vapeur

Dopage en phase vapeur

Les systèmes Flowlink assurent un contrôle des gaz stable et parfaitement étanche pour des opérations de dopage précises.

Applications fibres optiques.

Dépôt

Dépôt

  • MCVD (Modified Chemical Vapour Deposition – dépôt chimique en phase vapeur modifié)
  • OVD (Outside Vapour Deposition – dépôt en phase vapeur externe)

Ces deux techniques nécessitent une alimentation contrôlée en gaz réactifs à haute température. Flowlink garantit une gestion ultra propre des gaz, depuis la source jusqu’à la zone de dépôt.

Autres industries :
Automobile, Aéronautique, Défense & nucléaire.

Procédés CVD / PVD

Procédés CVD / PVD

Utilisées pour les revêtements protecteurs et les traitements de surface, ces opérations exigent un flux de gaz pur et stable.

Traitement thermique

Traitement thermique

Nos systèmes assurent des atmosphères contrôlées pour les procédés de traitement des matériaux à haute température.

Croissance de nanotubes de carbone

Croissance de nanotubes de carbone

Flowlink fournit des panneaux gaz de précision permettant une croissance reproductible sous conditions de CVD thermique ou plasma contrôlées.

Boîtes à gants et systèmes de confinement

Boîtes à gants et systèmes de confinement

Les vannes et collecteurs personnalisés ultra-haute pureté garantissent l’étanchéité et la sécurité dans les atmosphères de gaz inerte, utilisées pour la R&D et la manipulation de matières nucléaires.

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